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PNP6600EVO榮耀版

±10um@3σ

PNP6600EVO旗艦版

±7um@3σ

PNP6600EVO非凡版

±5um@3σ

PNP6600EVO至臻版

θ放置精度(標(biāo)定片)

±0.1@3σ

力控范圍

50g-5kg（可選配10g-1kg)

力控精度

10-200g±5g >200g-1kg±10g >1kg±5%

PNP6600EVO榮耀版

CPH2500

PNP6600EVO旗艦版

CPH2500

PNP6600EVO非凡版

CPH1000

PNP6600EVO至臻版

正面貼工藝

工藝時(shí)間50ms時(shí)與標(biāo)準(zhǔn)片CPH相同，實(shí)際效率受客戶工藝時(shí)間影響
中轉(zhuǎn)臺(tái)方式，實(shí)際效率受制程影響

標(biāo)準(zhǔn)

單貼裝頭

旋轉(zhuǎn)

0°- 360°旋轉(zhuǎn)

長(zhǎng)*寬*高

1650mm x 1600mm x 1800mm

芯片尺寸

0.17-50mm

芯片厚度

>50μm

晶圓尺寸

4-12英寸（可兼容3*6英寸子母環(huán)）

框架尺寸

Waffle pack/Gel-Pak

2*2英寸5個(gè)（可選14/35個(gè)），4*4英寸（4個(gè)）

其它要求

Jedec托盤(pán)等

類型

FR4,ceramic,BGA, flex,boat,lead frame,waffle pack
Gel-Pak?,JEDEC tray, odd-shape substrates

平臺(tái)加熱

MAX350°C 有惰性氣體氛圍保護(hù)

基板工作范圍

300mm x 200mm

正常運(yùn)行時(shí)間

>98%

良率

>99.95%

硬件

用于完全定制的開(kāi)放式平臺(tái)架構(gòu)

軟件

單組分跟蹤、CAD下載、晶圓映射、基板映射、條形碼掃描儀、數(shù)據(jù)矩陣識(shí)別等